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考夫曼射频离子源RFICP380用于铝表面溅射沉积ZrN薄膜
2021-01-27
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考夫曼射频离子源 RFICP220 用于溅射沉积硅片金属薄膜
2021-01-27
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考夫曼射频离子源RFICP380成功用于复合磁控溅射沉积装置
2021-01-27
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KRI考夫曼射频离子源RFCIP220溅射沉积红外器件介质膜
2021-01-27
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伯东KRI考夫曼射频离子源RFICP380溅射制备VO2薄膜
2021-01-27
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KRI考夫曼射频离子源RFICP140应用AlTiN涂层研究
2021-01-27
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KRI考夫曼射频离子源RFICP220溅射制备堵片传感器薄膜
2021-01-27
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考夫曼射频离子源RFICP220溅射制备类金刚石Ta-C涂层
2021-01-27
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考夫曼射频离子源RFICP220辅助磁控溅射沉积Cu-W 膜
2021-01-27
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KRI离子源广泛用于镀膜半导体航天等各个领域推进科技与科学
2021-01-27
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伯东 KRI 射频离子源 RFICP 应用于离子刻蚀 IBE
2021-01-27
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伯东 KRI 离子源用于辅助 5G 技术-陶瓷手机盖板镀膜
2021-01-27
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伯东 KRI 离子源成功应用于离子溅射镀膜 (IBSD)
2021-01-27
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伯东KRI 霍尔离子源 EH400 HC用于离子刻蚀 IBE
2021-01-27
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KRI霍尔离子源EH 3000HC用于辅助天文望远镜镜片镀膜
2021-01-27
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KRI霍尔离子源EH 4200辅助镀膜IBAD用于PC预清洁
2021-01-27
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KRI 考夫曼霍尔离子源辅助光学镀膜
2021-01-27
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伯东 KRI 霍尔离子源 EH 5500辅助手机壳颜色镀膜
2021-01-27
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伯东 KRI Gridded 考夫曼离子源用于离子束抛光工艺
2021-01-27
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伯东KRI射频离子源RFICP 325辅助LED-DBR镀膜
2021-01-27
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