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伯东KRI考夫曼射频离子源RFICP140用于镀制TiN薄膜
2021-01-27
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伯东 KRI考夫曼霍尔离子源 eH 3000用于玻璃基片清洗
2021-01-27
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伯东 KRI 考夫曼射频离子源在 PCB 钻头铣刀上的应用
2021-01-27
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考夫曼射频离子源RFICP 220 用于钟表行业镀制纳米薄膜
2021-01-27
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伯东 KRI 考夫曼射频离子源用于纯钛表面氨基化改性的研究
2021-01-27
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考夫曼离子源KDC 160辅助沉积高铝超硬涂层增强切削性能
2021-01-27
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伯东KRI无栅霍尔离子源eH 3000辅助镀制高质量光学薄膜
2021-01-27
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伯东 KRI离子源用于大口径光学元件KDP 晶体的溅射与刻蚀
2021-01-27
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KRI 聚焦型射频离子源用于制备类金刚石薄膜
2021-01-27
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KRI 考夫曼离子源 KDC 100 辅助镀制五金连接件铬膜
2021-01-27
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KRI 射频离子源用于碳化硅微纳结构表面刻蚀
2021-01-27
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KRI聚焦型射频离子源RFICP380用于制备超薄TEM样品
2021-01-27
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考夫曼霍尔离子源eh 3000用于清洗PPS/PEEK衬底面
2021-01-27
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射频离子源RFICP220用于ZAO透明导电薄膜性能研究试验
2021-01-27
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伯东KRI聚焦型射频离子源辅助磁控溅射沉积氧化铟锡ITO薄膜
2021-01-27
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射频离子源RFICP 380和分子泵组用于溅射沉积Cu薄膜
2021-01-27
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KRI 离子源用于离子束溅射镀制 Ge 纳米薄膜的研究
2021-01-27
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KRI双离子源辅助离子束溅射技术获取高反射吸收Ta2O5薄膜
2021-01-27
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伯东KRI考夫曼射频离子源RFICP220辅助 LED 封装
2021-01-27
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伯东KRI考夫曼射频离子源RFICP140辅助镀制OSR膜层
2021-01-27
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