全部产品
进店逛逛ZY-1185设备采用全自动的控制方式，合理配备多套最新研制的阴极电弧，有效保障弧源溅射的稳定性与均匀性，采用先进的多路进气系统，精准控制气体流量，满足您多种化合物膜层需求。装载大功率脉冲偏压电源，极大提高电粒子能量，从而获得优秀的膜层结合力和光洁度。
技术参数：
|
炉体尺寸 |
Φ1100×H850 |
|
有效空间 |
Φ550×H500 |
|
应用技术 |
HCD+ARC |
|
生产周期 |
3-5小时/炉 |
|
靶材数量 |
12PCS |
|
工件转架结构 |
下转架结构 |
|
标准涂层 |
TIN、CRN、ALTIN等 |
|
可选涂层 |
TIALCRN、TISIN、DLC等 |
|
控制系统及软件 |
PLC+触摸屏 组态软件 工业PC+ PLC+触摸屏 自己开发的专用镀膜软件 |
|
硬件 |
分子泵、罗茨泵、旋片泵 弧电源、脉冲偏压电源 |
|
外围尺寸 |
L4200×W3200×H2200 |
|
功率 |
70KW |
|
适用范围 |
注塑、五金、压铸等模具 各种零件及切削刀具等 |
|
产量/炉 |
铣刀Φ10×70 680 刀粒Φ18×6 5000 滚刀Φ80×80 48 模具 500KG |
|
配套条件 |
循环水压力：2-3KG 水量 10T/H 压缩空气：4-6KG |
|
工作气体 |
Ar、N2、O2、C2H2等 |
