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用途：
高纯钛靶主要用于大规模集成电路制造，LCD用靶，装饰镀膜等。
技术参数：
纯度：4N-5N
尺寸：直径50～400mm，厚度3～28mm
可根据客户要求定制
更新时间：2021-08-02 14:43 免费会员
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高纯钛靶主要用于大规模集成电路制造，LCD用靶，装饰镀膜等。
技术参数：
纯度：4N-5N
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可根据客户要求定制