掩膜版（Photomask）又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是微电子制造过程中的图形转移工具或母版，是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。掩膜版用于下游电子元器件制造业批量生产，是下游行业生产流程衔接的关键部分，是下游产品精度和质量的决定因素之一。

掩膜版的功能类似于传统照相机的“底片”，其工作原理如下：根据客户所需要的图形，掩膜版厂商通过光刻制版工艺，将微米级和纳米级的精细图案刻制于掩膜版基板上，掩膜版的原材料掩膜版基板是制作微细光掩膜图形的感光空白板，再将不需要的金属层和胶层洗去，即得到掩膜版产成品。掩膜版对下游行业生产线的作用主要体现为利用掩膜版上已设计好的图案，通过透光与非透光的方式进行图像（路图形）复制，从而实现批量生产。

掩膜板产品特点：

1、低开模费,可以按设计人员的设计要求进行掩膜图形任意更改，成本低

2、能实现金属的半刻，增加公司LOGO，实现品牌化生

3、可达+/-0.0075mm的精度，满足不同产品的组装要求

4、复杂外形产品同样可以蚀刻，无需额外增加成本

5、没有毛刺，压点，产品不变形,不改变材料性质，不影响产品的功能

6、厚薄材料都可以一样加工，满足不同装配组件的要求

7、几乎所有金属都能被蚀刻，对各种图案设计无限制

8、制造各类机械加工所无法完成的金属部件

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