小型桌面式蒸镀仪KT-Z1650CVD
是一款小型多功能镀膜仪,额定1800度高温,自动样品挡板,靶台旋转,触摸屏多段控制,工艺储存等功能。
真空蒸发镀膜包括以下基本过程:
(1)加热蒸发过程:包括由凝聚相转变为气相的过程,每种蒸发物质在不同的温度有不同的饱和蒸气压。
(2)气态原子或分子在蒸发源与基片之间运输,即原子或分子在环境气氛中的飞行过程。
(3)蒸发原子或分子在基片表面张得沉积过程。即是蒸发,凝聚,成核,核生长,形成连续的膜。由于基板温度远
低于基板温度远低于蒸发源温度,因此,气态分子在基片表面将发生直接由气态到固态的相转变过程。
	
技术参数
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				 控制方式  | 
			
				 7寸人机界面 手动 自动模式切换控制  | 
		
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				 加热方式  | 
			
				 数字式功率调整器  | 
		
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				 镀膜功能  | 
			
				 0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序  | 
		
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				 功率  | 
			
				 ≤1200W  | 
		
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				 输出电压电流  | 
			
				 电压≤12V 电流≤120A  | 
		
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				 真空度  | 
			
				 机械泵 ≤5Pa(5分钟) 分子泵≤10^-3Pa  | 
		
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				 挡板类型  | 
			
				 电控  | 
		
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				 真空腔室  | 
			
				 石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm  | 
		
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				 样品台  | 
			
				 可旋转φ62 (可安装φ50基底)  | 
		
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				 样品台转速  | 
			
				 8转/分钟  | 
		
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				 样品蒸发源调节距离  | 
			
				 70-140mm  | 
		
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				 蒸发温度调节  | 
			
				 ≤1800℃  | 
		
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				 支持蒸发坩埚类型  | 
			
				 钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳  | 
		
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				 预留真空接口  | 
			
				 KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口  | 
		
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				 可选配扩展  | 
			
				 机械真空泵(可抽真空 5分钟<5Pa) 数显真空计(测量范围大气压到0.1Pa) 分子泵机组(可抽真空20分钟≤5x10-3Pa)  | 
		
