研磨盘
详细说明:
制作工艺:压铸盘
厚度:12.5mm
优点:硬度、密度高,使用寿命长
| 产品名称 | 技术参数 | 应用范围 | 
| 氧化铈盘 | 邵氏硬度:80-90度 抗压强度:3-5pas 抗拉韧度:80-95度 修面后表面:3-5um | 主要用于光纤手机玻璃,液晶玻璃,芯片及平面平晶的抛光。 | 
| 铜盘 | 维氏硬度:45-50度 抗压强度:8-10pas 抗拉韧度60-65度 修面后表面Ra:1-3um | 主要用于各种精密工件的精磨和平面修整及Ra的改善 陶瓷的抛光 LED的精磨等。 | 
| 铁盘 | 维氏硬度:50-55度 抗压强度:10-15pas 抗拉韧度:50-60度 修面后表面Ra:2-4um | 主要用于各种精密工件的减薄和平面整形,如:光学玻璃 光纤 导光板 阀片 五金零部件 陶瓷 单晶硅片 不锈钢等。 | 
| 铸铁盘 | 维氏硬度:55-60度 抗压强度:15-20pas 抗拉韧度:40-50度 修面后表面Ra:8-12um | 主要用于各种工件的快速减薄,配用不同研磨液可以减薄 LED 镜片 陶瓷和各种超硬有色金属。 | 




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