在半导体工业中漂洗水里所含的有机化合物会影响产品的产量和质量。因此规定水中的总有机碳（TOC）污染物的含量不得超过百万分之一（ppb），即在此应用中只能适用超纯水。紫外照射技术的强大发展使其成功地引入半导体、制药化妆品，保健品等工业的超纯水制造中，此项技术不仅在消毒方面发挥巨大作用，在降低TOC，去除臭氧和氯方面也效果显著。在这一应用使用2钟UV波长，254nm和185nm，254nm波长的紫外光用于消毒作用，同事能破坏水中残留臭氧分子。185nm辐射能分解有机物分子，他比254nm波长能量更高。能从水分子中分解出自由羟基，从而将有机物氧化分解成CO2和水，从而降低了水中的TOC含量。