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机械及行业设备
KRI 射频离子源用于碳化硅微纳结构表面刻蚀
2021-01-27
伯东贸易(深圳)有限公司
KRI聚焦型射频离子源RFICP380用于制备超薄TEM样品
2021-01-27
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考夫曼霍尔离子源eh 3000用于清洗PPS/PEEK衬底面
2021-01-27
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射频离子源RFICP220用于ZAO透明导电薄膜性能研究试验
2021-01-27
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伯东KRI聚焦型射频离子源辅助磁控溅射沉积氧化铟锡ITO薄膜
2021-01-27
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射频离子源RFICP 380和分子泵组用于溅射沉积Cu薄膜
2021-01-27
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KRI 离子源用于离子束溅射镀制 Ge 纳米薄膜的研究
2021-01-27
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KRI双离子源辅助离子束溅射技术获取高反射吸收Ta2O5薄膜
2021-01-27
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伯东KRI考夫曼射频离子源RFICP220辅助 LED 封装
2021-01-27
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伯东KRI考夫曼射频离子源RFICP140辅助镀制OSR膜层
2021-01-27
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伯东考夫曼射频离子源RFICP220用于修正高精度CGH基底
2021-01-27
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伯东KRI考夫曼射频离子源 RFICP140 用于清洗继电器
2021-01-27
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考夫曼射离子源RFICP380辅助溅射沉积制备锂硫电池正极片
2021-01-27
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考夫曼射频离子源FRICP380辅助溅射镀制Al2O3薄膜
2021-01-27
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考夫曼射频离子源RFCIP220辅助溅射制备GdF3光学薄膜
2021-01-27
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KRI RFICP325 离子源已成功应用在塑料光学镜头应用
2021-01-27
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KR考夫曼聚焦射频离子源RFICP380辅助制备原子探针样品
2021-01-27
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KRI考夫曼离子源RFCIP220辅助溅射制备LaF3薄膜
2021-01-27
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考夫曼射频离子源RFCIP380溅射镀制TC4表面TiN涂层
2021-01-27
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考夫曼射频离子源RFICP140 溅射制备 MnGe 量子点
2021-01-27
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